Annons

Design av integrerade kretsar (IC) och EDA: Aprisa i första ”Siemens-versionen” tar stora prestandakliv

Inki Hong, divisionsdirektör för Aprisas produktlinje inom Siemens Digital Industries menar att den här nya versionen bekräftar Siemens engagemang för att tillhandahålla teknik i världsklass till bolagets EDA-kunder:
– Med Aprisa 21.R1 kan våra kunder arbeta mer effektivt med större och mer utmanande design än någonsin tidigare, summerar han utvecklingsarbetet.

VILKA ÄR DÅ DE TEKNISKA FRAMSTEG I APRISA 21.R1?
Här är den katalog över milstolpar och höjdpunkter som bolaget presenterade i veckan:
• Genomsnittlig minskning av fullflödeskörningar på 30 procent jämfört med föregående version och upp till 2 ggr snabbare körtid för större, mer utmanande konstruktioner.
• Förbättringar till alla större plats-och-rutt-motorer, från placeringsoptimering till optimering av klocksträdssyntes (CTS), ruttoptimering och tidsanalys. Fördelarna med dessa prestandaförbättringar kan observeras på nästan alla IC-konstruktioner, särskilt gällande större konstruktioner med komplicerade ”multi-corner/multi-mode (MCMM)-funktioner”. På denna typ av utmanande mönster har Aprisa visat sig köra upp till 2 ggr snabbare än föregående generation.
• En upp till 60-procentig minskning av minnesavtryck. Aprisa har i genomsnitt minskat fullflödes toppminnesanvändning för stora mönster med 30 procent och med upp till 60 procent för komplexa mönster jämfört med föregående generation. Denna större effektivitet gör att ännu större konstruktioner med komplicerat MCMM kan slutföras på servrar med mindre tillgängligt RAM-minne.
• 6nm/5nm/4nm designaktivering. Siemens har samarbetat nära med ledande aktörer för att möjliggöra Aprisa för avancerade noder. Aprisa är fullt certifierat för 6nm-processer och Siemens har implementerat alla nödvändiga designregler och funktioner för designaktivering av 5nm- och 4nm-noder. Slutcertifieringar, i samarbete med världens ledande partners, pågår.
• Utökat stöd för multi-power domain (MPD). De utökade funktionerna ökar kraftigt flexibiliteten och fullständigheten hos MPD-stöd, vilket är avgörande för extrema lågeffektsdesigner.

Print Friendly, PDF & Email

Success Stories

Industriellt

Success Stories

Intressant på PLM TV News

PLM TV News

PLM TV News

PLM TV News

PLM TV News

PLM TV News

Aktuell ANALYS

Aktuell Analys

Aktuell Analys

3D-printing

Block title