Dimitry Suyatin berättar vidare att man förutom att redan ha erhållit två amerikanska och ett Taiwan-patent, nu också kommer att få sitt europeiska patent beviljat.
– Men vi har fler patentansökningar på gång, en process för att validera patentet i nyckelländer i Europa pågår, tillägger han.
Minskar komplexitet och miljöavtryck
Det är det europeiska patentverket (EPO) som har utfärdat ett meddelande om sin avsikt att bevilja det första europeiska patent. Europa är en av de viktigaste marknaderna för ledande halvledarprodukter på grund av storleken på EUs inre marknad för elektroniska varor som smartphones, PC/laptops, surfplattor, fordons- och internetservrar, och därför avgörande för AlixLabs att skydda sin innovativa APS process här via IP.
Dr Jonas Sundqvist, CEO och medgrundare, säger att:
– APS-metoden är komplementär för enkelexponering immersion och extrem UV (EUV) litografi och motsvarande multipelmönstertekniker som självinriktad dubbel- och fyrdubbelmönster (SADP resp. SAQP) samt multiexponeringslitografi-etsning och riktad självmontering (DSA). APS kan dock minska komplexiteten, kapitalutgifterna och miljöavtrycket för wafertillverkning avsevärt. Förutom att EU är en av de största marknaderna för halvledarkomponenter, har de senaste tillkännagivandena av 300 mm waferfab expansioner och ledande fordonssektor betyder att det är viktigare än någonsin att ha europeisk IP.
